http://uv-bulbs-factory.com/bn/tags/exposure/ Recent content in Exposure on UV Bulbs Factory Hugo bn Sat, 20 Jun 2026 10:33:52 +0800 http://uv-bulbs-factory.com/bn/posts/uv-exposure-lamp-gallium/ Sat, 20 Jun 2026 10:33:52 +0800 http://uv-bulbs-factory.com/bn/posts/uv-exposure-lamp-gallium/ <p><img src="http://uv-bulbs-factory.com/images/c794c163e6a1433bb27962cb0d823c70.png" alt="ইউভি রশ্মি নির্গতকারী ল্যাম্প – গ্যালিয়াম"></p> <p>৮০–১২০ মিটার/মিনিট গতিতে কাজ করা যন্ত্রপাতিগুলোতে কোনো ধরনের ঢিলামি থাকে না। যদি ইঙ্কটি স্ট্যাকে পৌঁছানোর সময়ও আর্দ্র অবস্থায় থাকে, তাহলে খারাপ মানের ছবি তৈরি হবে; পুনর্কাজ করতে হবে, আর উৎপাদন ক্ষমতা কমে যাবে। সমাধান শুধুমাত্র “আরও ল্যাম্প” ব্যবহার করাই নয়। প্রয়োজনীয় কাজের জন্য উপযুক্ত ইউভি রশ্মি উৎপন্ন করার জন্য বিশেষ ধরনের ল্যাম্প ব্যবহার করা উচিত।</p> <p>এখানে গুরুত্বপূর্ণ বিষয় হলো ফটোইনিশিয়েটরের রাসায়নিক গুণাবলীকে স্পেকট্রাল আউটপুটের সাথে মিলিয়ে নেওয়া। গ্যালিয়াম-ডোপড মিডিয়াম-প্রেশার মার্কিউরি ল্যাম্পগুলো ৩৬৫–৩৯৫ ন্যানোমিটার তরঙ্গদৈর্ঘ্যে শক্তিশালী রশ্মি উৎপন্ন করে; এখানে অনেক ফ্রি-র্যাডিক্যাল ও ক্যাটায়োনিক পদার্থগুলো সহজেই শোষিত হয়। বাস্তবে এর মানে হলো, সাবস্ট্রেটে রশ্মির তীব্রতা ৮ ওয়াট/সেমি²-এর বেশি হওয়া উচিত; আর কিউরিং এনার্জি ডেনসিটি ৩০০–৬০০ মিলিজুল/সেমি² হওয়া উচিত। এতে ০.৮–১.২ সেকেন্ডের মধ্যেই ক্রস-লিঙ্কিং ঘটে, এমনকি মোটা সাদা সাবস্ট্রেটেও।</p>