Lampada per cura UV Uvitron

Sun, 21 Jun 2026 11:06:25 +0800

A livello pratico, l’ambizione è importante… ma lo spazio disponibile rappresenta un limite reale. Non si può semplicemente aggiungere un altro armadio o modificare la struttura della macchina per farla funzionare più velocemente. Quindi l’unica soluzione sensata è potenziare il modulo di essiccazione stesso, senza modificare la struttura complessiva della macchina.

Ciò che conta realmente
La lampada per essiccazione a raggi UV di Uvitron utilizza una sorgente di vapore di mercurio ad alta pressione, progettata per fornire un output spettrale stabile nell’intervallo UVA. I wavelength chiave sono 365 nm e 395 nm: questi valori permettono di massimizzare l’efficacia degli iniziatori fotici presenti nelle vernici per stampa UV. L’intensità di irradiazione sul substrato raggiunge i 1200 mW/cm²; nei processi di stampa tipici, viene erogata un’energia di essiccazione compresa tra 600 e 800 mJ/cm².

Uvitron on UV Bulbs Factory

Lampada per cura UV Uvitron